熱釋光劑量系統(tǒng)是測(cè)量熱釋光劑量計(jì)發(fā)光量的儀器。設(shè)備主板底部開有錐形熱室，上部固定有防塵蓋；電機(jī)架與過(guò)渡板分別固定在主板底部的左右兩側(cè)，抽拉板插入電機(jī)架的槽內(nèi)，樣品盤放在抽拉板上；兩個(gè)深溝球軸承分別固定在防塵蓋和主板的槽內(nèi)，大齒輪通過(guò)深溝球軸承與主板配合；變壓器安裝在過(guò)渡板的底部，水平步進(jìn)電機(jī)安裝在過(guò)渡板的后部。
熱釋光劑量系統(tǒng)的基本工作原理是：經(jīng)輻照后的待測(cè)元件由儀器內(nèi)的電熱片或熱氣等加熱，待測(cè)元件加熱后所發(fā)出的光，通過(guò)光路系統(tǒng)濾光、反射、聚焦后，通過(guò)光倍增值管轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。輸出顯示可用率表指示出發(fā)光峰的高度（峰高法）或以數(shù)字顯示出電荷積分值（光和法），再換算出待測(cè)元件所接收到的照射量。 熱釋光劑量系統(tǒng)測(cè)量發(fā)光度的兩種方法：
1、峰高法：測(cè)量發(fā)光曲線中峰的高度。這一方法具有測(cè)速快、衰退影響小、本底熒光和熱輻射本底干擾小等優(yōu)點(diǎn)。它的主要缺點(diǎn)是，因?yàn)榉宓母叨仁羌訜崴俣鹊暮瘮?shù)，所以加熱速度和加熱過(guò)程的重復(fù)性對(duì)測(cè)量帶來(lái)的影響比較大。
2、光和法：測(cè)量發(fā)光曲線下的面積，亦稱面積法。這一方法受升溫速度和加熱過(guò)程的重復(fù)性的影響小。可以采用較高的升溫速度，并可采用測(cè)量發(fā)光曲線中一部分面積的方法消除低溫峰及噪聲本底的影響。它的主要缺點(diǎn)是受“假熒光”熱釋光本底及殘余劑量干擾較大。所以在測(cè)量中必須選擇合適的“測(cè)量”階段和“退火”階段的溫度。合理的選擇各階段持續(xù)時(shí)間，以磷光體各個(gè)部分的溫度達(dá)到平衡，以利于充分釋放儲(chǔ)存的輻射能量。
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